工業4.0背景下的FTIR光譜儀：賽默飛iG50如何實現生產線的實時質量控制

1.高性能硬件配置：滿足嚴苛工業環境需求

高光譜分辨率與靈敏度：

iG50的光譜分辨率達0.5 cm?¹，信噪比（S/N）性能優異，可實現百萬分之一（ppm）級低濃度組分檢測，同時準確測量百分之一濃度的高濃度組分。

動態對齊光學系統：

內置動態對齊光學控件，可抵御外部振動和溫度波動，確保光譜數據穩定性，減少人工校準頻率。

模塊化設計：

支持可互換的光學和采樣接口模塊，可根據工藝需求靈活配置，適應液體、氣體或固體樣品檢測。

2.實時數據采集與反饋：無縫集成生產流程

快速掃描與雙檢測器采集：

掃描速度范圍廣（0.158至6.28 cm/sec），支持高速瞬態事件表征。雙檢測器采集功能可同時捕獲研究數據與多通道監測信號，提升分析效率。

光纖探頭與遠程監測：

通過光纖連接流通池或浸入式探頭，可直接安裝于生產線關鍵節點，實現無時間延遲的實時測量。

工業協議兼容性：

支持Modbus、Profibus DP、OPC等工業標準通信協議，可與DCS（分布式控制系統）或SCADA（數據采集與監視系統）無縫對接，實時反饋質量控制參數。

3.智能診斷與預測性維護：降低停機風險

內置性能驗證工具：

機載診斷工具可實時監測光學元件狀態，并通過直觀界面或數字信號輸出至外部DCS系統。

預對準替換部件：

光學元件采用預對準設計，維護時無需重新校準，可將停機時間縮短至較低。

環境適應性優化：

光學元件封裝于緊湊型不銹鋼外箱內，符合19英寸6U工業機架標準，可安裝于生產線支架或控制柜內。其防震設計和溫度控制功能，確保在惡劣工業環境中穩定運行。

4.應用場景驗證：覆蓋全產業鏈需求

工藝液體與氣體測量：

在半導體制造中，iG50可用于硅片表面污染物分析，通過高分辨率光譜識別納米級雜質，確保晶圓良率。

連續排放監測（CEM）：

在煙囪排放監測中，iG50可實時分析SO?、NOx等污染物濃度，數據直接上傳至環保監管平臺，滿足合規性要求。

在線薄膜分析：

在聚合物生產中，通過ATR（衰減全反射）附件實時監測薄膜厚度與成分均勻性，優化擠出工藝參數。

5.工業4.0生態協同：數據驅動決策

云平臺與邊緣計算集成：

支持Wi-Fi連接與云端數據共享，結合OMNIC Paradigm軟件的自動化工作流程，可實現多生產線數據聚合分析。

全球技術支持網絡：

賽默飛提供方法開發、校準轉移與質保服務，確保iG50在全球不同工廠的標準化應用。